Sputtertargetmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargetmaterials

EP4582583 Art A1 9. Juli 2025

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Limited, Toshima Manufacturing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4582583
Aktenzeichen: EP23859992
Anmeldetag: 9. August 2023
Veröffentlichung: 9. Juli 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/34C04B35/495H10N30/076H10N30/097H10N30/853

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Sumitomo Chemical Company, Limited
Toshima Manufacturing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

4.352 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von