Trennmittelzusammensetzung zur Lichtbestrahlungsfreisetzung, Laminat und Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats
EP4583149
Art A1
9. Juli 2025
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4583149
- Aktenzeichen
- EP23860255
- Anmeldetag
- 28. August 2023
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02C08K5/00C08L33/06C08L33/12C08L61/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München