Vakuumback für die Euv-Lithographie
EP4584637
Art A1
16. Juli 2025
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4584637
- Aktenzeichen
- EP23863773
- Anmeldetag
- 7. September 2023
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/38G03F7/20H01L21/027H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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