Pellikel und Verfahren zur Bildung des Pellikels zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung

EP4587888 Art A1 23. Juli 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Imec V.Z.W. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4587888
Aktenzeichen: EP23764967
Anmeldetag: 8. September 2023
Veröffentlichung: 23. Juli 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Imec V.Z.W.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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