Empfangssubstrat, Verfahren zur Herstellung des Empfangssubstrats, Hubverfahren, Halteverfahren und Verfahren zur Reinigung einer Mikrostruktur

EP4589639 Art A1 23. Juli 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4589639
Aktenzeichen: EP23879668
Anmeldetag: 10. Oktober 2023
Veröffentlichung: 23. Juli 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/50H01L33/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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