Verfahren zur Herstellung einer Siliciumcarbidschicht
EP4609430
Art A1
3. September 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4609430
- Aktenzeichen
- EP23805643
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 3. September 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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