Piezoelektrisches Auf-Isolator (poi)-Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Piezoelektrischen Auf-Isolator (poi)-Substrats
EP4609679
Art A1
3. September 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4609679
- Aktenzeichen
- EP23794418
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 3. September 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10N30/00H01L21/02H01L21/762H10N30/853
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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