Plasmaverarbeitungsvorrichtung, Stromversorgungssystem und Verfahren zur Steuerung der Quellenfrequenz
EP4618135
Art A1
17. September 2025
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4618135
- Aktenzeichen
- EP23894469
- Anmeldetag
- 13. November 2023
- Veröffentlichung
- 17. September 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/3065H05H1/00H05H1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München