Plasmaverarbeitungsvorrichtung, Stromversorgungssystem und Frequenzsteuerungsverfahren

EP4622397 Art A1 24. September 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4622397
Aktenzeichen: EP23897586
Anmeldetag: 20. November 2023
Veröffentlichung: 24. September 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von