Verfahren zur Optimierung der Emission Elektromagnetischer Strahlung eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4625047
- Aktenzeichen
- EP24166117
- Anmeldetag
- 26. März 2024
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
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