Dielektrische Wand zur Trennung eines Gate-Dielektrikums zwischen Benachbarten Vorrichtungen

EP4626176 Art A3 19. November 2025

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4626176
Aktenzeichen: EP25156377
Anmeldetag: 6. Februar 2025
Veröffentlichung: 19. November 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H10D84/01H10D30/01H10D30/43H10D30/00H10D84/03H10D84/85

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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