Strahlführungseinrichtung zur Führung von Laserstrahlung sowie Lithographieanlage

EP4628961 Art A1 8. Oktober 2025

Anmelder: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4628961
Aktenzeichen: EP24168826
Anmeldetag: 5. April 2024
Veröffentlichung: 8. Oktober 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G02B7/18G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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