Zusammensetzung zur Bildung eines Beschichtungsfilms zur Fremdmaterialentfernung und Halbleitersubstrat
EP4629280
Art A1
8. Oktober 2025
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4629280
- Aktenzeichen
- EP23897881
- Anmeldetag
- 30. November 2023
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02C09D9/00C09D181/00C09D183/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München