Siliciumdioxidteilchen, Herstellungsverfahren für Siliciumdioxidteilchen, Siliciumdioxidsol, Polierzusammensetzung, Polierverfahren, Herstellungsverfahren für Halbleiterwafer und Herstellungsverfahren für Halbleiterbauelement
EP4631913
Art A1
15. Oktober 2025
Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4631913
- Aktenzeichen
- EP23900695
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 15. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/18C01B33/141C09K3/14H10P52/00H10P52/40H10P90/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München