Optischer Verstärker zur Verstärkung von Laserstrahlung, Lithographiesystem und Verfahren zur Verstärkung von Laserstrahlung in einem Optischen Verstärker

EP4632970 Art A1 15. Oktober 2025

Anmelder: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4632970
Aktenzeichen
EP24169402
Anmeldetag
10. April 2024
Veröffentlichung
15. Oktober 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01S3/00H01S3/034H01S3/03G01N21/94H01S3/036// H01S3/07H01S3/223
Offizieller Volltext

Abstract

The present invention concerns an optical amplifier (2) for amplifying laser radiation (11) comprising a cavity (201) filled with a laser active gas, comprising a screen (205) having a surface arranged in the cavity (201), a camera (207) configured for monitoring the surface of the screen (205) and for providing image data, and an analysis unit (208) configured for detecting particles (300) deposited on the surface of the screen (205) based on the image data provided by the camera (207. The invention further concerns a for monitoring particle contamination in an optical amplifier (2) for amplifying laser radiation (11) comprising a cavity (201) filled with a laser active gas and a screen (205) having a surface arranged in the cavity (201), wherein a camera (207) monitors the surface of the screen (205) and provides image data and an analysis unit (208) detects particles (300) deposited on the surface of the screen (205) based on the image data provided by the camera (205).

Anmelder

Firmen
TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE
ASML Netherlands B.V.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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