Zusammensetzung zur Bildung eines Resistunterschichtfilms
EP4636487
Art A1
22. Oktober 2025
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4636487
- Aktenzeichen
- EP23903476
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München