Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung und Oniumsalz

EP4644991 Art A1 5. November 2025

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4644991
Aktenzeichen: EP23911911
Anmeldetag: 20. Dezember 2023
Veröffentlichung: 5. November 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C309/05C07C309/17C07C381/12C07D307/00C07D309/12C07D327/06C07D333/46C07D333/48C07D333/76C09K3/00G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von