Verfahren zur Herstellung eines Moduls für die Halbleiterlithographie und Modul für die Halbleiterlithographie
EP4650083
Art A1
19. November 2025
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4650083
- Aktenzeichen
- EP25174654
- Anmeldetag
- 6. Mai 2025
- Veröffentlichung
- 19. November 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22D19/00G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Raunecker Patent
Ulm, Deutschland
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