Verfahren zur Herstellung einer Aktiven Metallpaste, Verfahren zur Herstellung einer Keramischen Leiterplatte, Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

EP4653111 Art A1 26. November 2025

Anmelder: Niterra Materials Co., Ltd., Kabushiki Kaisha Toshiba, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4653111
Aktenzeichen: EP23917703
Anmeldetag: 13. Dezember 2023
Veröffentlichung: 26. November 2025
Rechtsraum: EP
IPC: B22F9/00B22F1/00B22F7/08B23K1/00B23K1/19C22C5/08C22C9/00H01L23/12H05K1/03H05K1/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Niterra Materials Co., Ltd.
Kabushiki Kaisha Toshiba
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.642 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

411 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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