Resistunterschichtfilmbildungszusammensetzung

EP4657158 Art A1 3. Dezember 2025

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4657158
Aktenzeichen: EP24763810
Anmeldetag: 26. Februar 2024
Veröffentlichung: 3. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11C08G59/48C08G59/50G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von