Substratmontierte Integrierte Struktur mit einer Ferroelektrischen Schicht mit Selektiver Umkehrpolarisation in der Dicke davon und Verfahren zur Herstellung davon
EP4662990
Art A1
17. Dezember 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4662990
- Aktenzeichen
- EP24703122
- Anmeldetag
- 29. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10N30/045H10N30/072H10N30/073H03H9/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
801 Patente in unserer Datenbank