Reflektierender Fotomaskenrohling, Reflektierende Fotomaske und Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Fotomaskenrohlings

EP4664195 Art A3 7. Januar 2026

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4664195
Aktenzeichen: EP25182333
Anmeldetag: 12. Juni 2025
Veröffentlichung: 7. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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