Herstellung von Euv-Masken unter Verwendung einer Kombination aus Einzelschichtlithografie und Bereichsselektiver Abscheidung

EP4670007 Art A1 31. Dezember 2025

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4670007
Aktenzeichen: EP24703641
Anmeldetag: 1. Februar 2024
Veröffentlichung: 31. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/16G03F1/24G03F1/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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