Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP4671865 Art A1 31. Dezember 2025

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4671865
Aktenzeichen: EP25185194
Anmeldetag: 25. Juni 2025
Veröffentlichung: 31. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von