Lithographische Verfahren für Doppel-Damaszener-Strukturen
EP4671867
Art A3
28. Januar 2026
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4671867
- Aktenzeichen
- EP25182980
- Anmeldetag
- 16. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 28. Januar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F7/213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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