Lichtempfindliches Element, Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur und Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte

EP4675350 Art A1 7. Januar 2026

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4675350
Aktenzeichen: EP23957610
Anmeldetag: 31. Oktober 2023
Veröffentlichung: 7. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Resonac Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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