Oniumsalzmonomer, Polymer, Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von Resistmustern
EP4675353
Art A1
7. Januar 2026
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4675353
- Aktenzeichen
- EP25186358
- Anmeldetag
- 30. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038C07C25/18C07C309/73C07C309/75C07C381/12C07D327/08C07D333/76C08F12/20C08F12/22C08F12/30C08F12/32C09D125/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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