Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren und Herstellungsverfahren für Elektronische Vorrichtung

EP4679174 Art A1 14. Januar 2026

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4679174
Aktenzeichen: EP24767042
Anmeldetag: 1. März 2024
Veröffentlichung: 14. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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