Lasersystem, Anlage zum Belichten eines mit einer Lichtempfindlichen Beschichtung Beschichteten Halbleitermaterials mit Ultraviolettem Licht, Verfahren zum Erzeugen eines Lichtstrahls zum Erzeugen eines Plasmas eines Zielmaterials, das Euv-Licht Emittiert, und Verfahren zum Herstellen von Mikrochips oder Halbleiterzwischenprodukten zum Herstellen von Mikrochips
EP4687233
Art A1
4. Februar 2026
Anmelder: TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4687233
- Aktenzeichen
- EP24192474
- Anmeldetag
- 1. August 2024
- Veröffentlichung
- 4. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01S3/00H01S3/07H01S3/23// H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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