Zusammensetzung zur Bildung eines Resistunterschichtfilms
EP4692942
Art A1
11. Februar 2026
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4692942
- Aktenzeichen
- EP24780276
- Anmeldetag
- 26. März 2024
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11C08G8/04H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München