Segmentierte Bildung einer Gate-Schnittstelle
EP4695838
Art A1
18. Februar 2026
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4695838
- Aktenzeichen
- EP24789185
- Anmeldetag
- 4. März 2024
- Veröffentlichung
- 18. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/324H01L21/8238
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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