Verfahren zur Herstellung einer Photonischen Vorrichtung mit Verringerten Verlusten

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4711829

Anmeldetag

8. September 2025

Veröffentlichung

18. März 2026

Rechtsraum

EP

IPC

G02B6/136

Abstract

L'invention a pour objet un procédé de fabrication d'un dispositif photonique (D1) comprenant les étapes suivantes :(i) fournir une structure de guidage optique (WG) disposée sur une première couche en SiO2 thermique ; la première couche (C1) étant disposée sur une première face d'un substrat (SUB) en un matériau semi-conducteur ;(ii) graver la seconde face opposée à la première face du substrat en dessous d'au moins une partie de structure de guidage optique jusqu'à la première couche (C1) en SiO2 thermique de manière à obtenir une membrane (M1) formée par une partie de la première couche suspendue au-dessus d'une cavité (CV) délimitée par deux piliers (PL1, PL2) ; la structure de guidage optique étant disposée sur ladite membrane ;(iii) déposer une deuxième couche (C2) en SiO2 sur la première couche (C1) du côté de la cavité (CV) de manière à augmenter l'épaisseur de la membrane (M1).

Anmelder

Firma

Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives

Land

🇫🇷 Frankreich