Nanoelektronische Vorrichtungen mit Strukturierten Dünnschichten und Verfahren zur Herstellung davon
Anmelder: Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4712727
- Anmeldetag
- 6. November 2024
- Veröffentlichung
- 18. März 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
The present invention relates to a method for straining a two-dimensional layer of solid material (5) in a nanoelectronic device. The method comprises the steps of providing a substrate; adding a thin film onto the substrate to be in direct contact with the substrate (4), or onto one of one or more first interlayers placed on the substrate (4) to be in indirect contact with the substrate (4); patterning the thin film; and adding, through a high-temperature process, a two-dimensional layer of solid material onto the patterned thin film (3) to be in direct contact with the patterned thin film (3), or onto one of one or more second interlayers placed on the patterned thin film (3) to be in indirect contact with the patterned thin film (3).
Anmelder
- Firma
- Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
2018 in Bern gegründete, international anerkannte Kanzlei für Patent- und Markenrecht, ansässig nahe dem Eidgenössischen Institut für Geistiges Eigentum. Berät Konzerne, Universitäten und Erfinder zu Schutzrechten, Prozessvertretung und Lizenzen, mit Schwerpunkten in Uhrenindustrie und Medizintechnik, dreisprachig.