Verfahren zur Herstellung einer Dreidimensionalen Elektrisch Leitfähigen Struktur

EP4716386 25. März 2026

Anmelder: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4716386
Anmeldetag
19. September 2024
Veröffentlichung
25. März 2026
Rechtsraum
EP
IPC
(MURAMATSU SHIGETSUGU et al.)
Offizieller Volltext

Abstract

A method for manufacturing a three-dimensional electrically conductive structure (100). A substrate (S) is provided with a structure (10) comprising a set of core structures (10p), each respective core structure (10p) extending with a respective height (H) above a surface of the substrate (S). A conductive seed layer (11) is applied to the substrate (S). A mask layer (12) is applied by coating to the conductive seed layer (11). The mask material (12m) forms a mask pattern masking the conductive seed layer (11) at respective masked areas (12p) of the substrate (S). The conductive seed layer (11) is exposed at respective exposed areas (12e, 12e'). Additional electrically conductive material (13m) is grown on the conductive seed layer (11) at the respective exposed areas (12e,12e'), including the conductive seed layer (11) covering the set of core structures (10p) to form part of the three-dimensional electrically conductive structure (100).

Anmelder

Firma
Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 TNO (Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek)

Niederländisches, unabhängiges Forschungsinstitut für angewandte Naturwissenschaften mit Sitz in Den Haag. TNO betreibt anwendungsorientierte Forschung und Entwicklung in Bereichen wie Energie, Mobilität, Gesundheit, Verteidigung und Informationstechnologie.

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Vertreten von

  • V.O.

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