Maskenvariabilitätsreduktion durch Ortsbewahrende Musterhashes
EP4718155
1. April 2026
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4718155
- Anmeldetag
- 21. August 2025
- Veröffentlichung
- 1. April 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/36
Abstract
A method includes generating a hash comprising a plurality of values based on a geometric pattern within a window that represents a portion of a physical design for a semiconductor mask layer, the window including at least a portion of a polygon; determining a displacement value for a segment of the polygon based on the hash; and modifying a position of a segment of the polygon based on the displacement value.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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