Mems-Vorrichtung, Gebaut unter Verwendung der Beol-Metallschichten eines Festkörperhalbleiterverfahrens
EP4729470
22. April 2026
Anmelder: Nanusens SL 🇪🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4729470
- Anmeldetag
- 8. Januar 2021
- Veröffentlichung
- 22. April 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81C1/00
Abstract
A MEMS device formed using the materials of the BEOL of a CMOS process, wherein a post-processing of vHF and post backing was applied to form the MEMS device, having a total size of the MEMS device is between 50um and 150um that includes a pad having a top metal layer arranged to extend between 15µm to 25µm laterally beyond a vertically aligned passivation opening in all directions.
Anmelder
- Firma
- Nanusens SL
- Land
- 🇪🇸 Spanien
Kanzlei
Boston & Galway
Kleine, traditionell arbeitende Patentanwaltskanzlei mit Standorten in Wellesley in den USA und London, begleitet US- und europäische Patentverfahren, Übertragungs- und Lizenzverträge sowie vorbereitende Untersuchungen zu Patentverletzungen im Hinblick auf das Einheitliche Patentgericht.
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