Verfahren zum Chemischen Polieren von Siliziumplatten

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP4746642

Anmeldetag

10. November 2025

Veröffentlichung

20. Mai 2026

Rechtsraum

EP

Abstract

L'invention porte sur un procédé de polissage chimique pour obtenir un lot de plaques lissées. Il comporte une fourniture de plusieurs plaques de silicium comprenant chacune une face de découpe, une mesure d'une réflectivité diffuse de la face de découpe de chaque plaque de silicium, une détermination d'une durée d'immersion par plaque pour un ensemble de plaques parmi les plaques fournies, chaque durée d'immersion étant fonction de la réflectivité diffuse de la face de découpe de la plaque correspondante, et une gravure humide anisotrope de chaque plaque de l'ensemble de plaques selon des plans cristallins du silicium, par immersion dans une solution de gravure pendant la durée d'immersion déterminée correspondante, pour obtenir le lot de plaques lissées. Chaque durée d'immersion étant déterminée pour garantir un dépôt conforme d'une couche mince sur la face de découpe de chaque plaque du lot de plaques lissées.

Anmelder

Firma

Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives

Land

🇫🇷 Frankreich