Verfahren zur Herstellung von Schnittstellenbeschichtungen
Anmelder: RTX Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4748813
- Anmeldetag
- 14. Oktober 2025
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
A method for fabricating an interface coating on a substrate, comprising (i) providing a substrate; (ii) depositing on the substrate at least one layer of boron nitride; and (iii) depositing on the boron nitride layer a Si<3>N<4>-BN multilayer coating to form a coated substrate, the Si<3>N<4>-BN multilayer coating comprises a pattern of alternating layers having at least one boron nitride layer and at least one silicon nitride layer according to the following steps: (iiia) depositing at a first deposition temperature a layer of silicon nitride at a first thickness; (iiib) depositing at a second deposition temperature a layer of boron nitride at a second thickness; and repeating steps (iiia) and (iiib) until forming the Si<3>N<4>-BN multilayer coating. The coated substrate is a ceramic fibrous preform.
Anmelder
- Firma
- RTX Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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