Metallkomplex
Anmelder: Daikin Industries, Ltd., The University of Tokyo 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4748966
- Anmeldetag
- 23. August 2024
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
The present invention provides a raw material complex for forming a thin metal film, having a central metal and a ligand coordinated to the central metal, wherein the central metal has an atomic polarizability of 45 to 51 and the complex satisfies the following conditions: a polarizability volume ≤ 200 and a relative dielectric constant ≤ 2.20.
Anmelder
- Firmen
- Daikin Industries, Ltd.
The University of Tokyo - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Hersteller von Klima- und Kältetechnik mit Sitz in Osaka. Daikin entwickelt Klimaanlagen, Wärmepumpen, Kältemittel und Fluorchemikalien für Gebäude- und Industrieanwendungen.
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Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.
2.129 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München