Verfahren zur Herstellung einer Dünnschicht
Anmelder: Daikin Industries, Ltd., The University of Tokyo 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4748969
- Anmeldetag
- 23. August 2024
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
A method for manufacturing a thin film, comprising:a deposition process for depositing a raw material compound on a substrate material by atomic layer deposition using the raw material compound; and a film forming process for forming a thin film by reducing a deposited product with a reducing gas at a pressure of 4.5 Torr or more after the deposition process.
Anmelder
- Firmen
- Daikin Industries, Ltd.
The University of Tokyo - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Hersteller von Klima- und Kältetechnik mit Sitz in Osaka. Daikin entwickelt Klimaanlagen, Wärmepumpen, Kältemittel und Fluorchemikalien für Gebäude- und Industrieanwendungen.
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Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.
2.129 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München