Verfahren zur Herstellung einer Dünnschicht

EP4748969 27. Februar 2025

Anmelder: Daikin Industries, Ltd., The University of Tokyo 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4748969
Anmeldetag
23. August 2024
Veröffentlichung
27. Februar 2025
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

A method for manufacturing a thin film, comprising:a deposition process for depositing a raw material compound on a substrate material by atomic layer deposition using the raw material compound; and a film forming process for forming a thin film by reducing a deposited product with a reducing gas at a pressure of 4.5 Torr or more after the deposition process.

Anmelder

Firmen
Daikin Industries, Ltd.
The University of Tokyo
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Daikin Industries

Japanischer Hersteller von Klima- und Kältetechnik mit Sitz in Osaka. Daikin entwickelt Klimaanlagen, Wärmepumpen, Kältemittel und Fluorchemikalien für Gebäude- und Industrieanwendungen.

3.412 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

2.129 Patente in unserer Datenbank

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