Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4749365
- Anmeldetag
- 21. November 2025
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004, G03F7/038
Abstract
An onium salt in which an aromatic ring having a sulfo group bonded thereto and another aromatic ring structure containing a bulky substituent group are linked via a sulfonamide bond generates an aromatic sulfonic acid with adequate acidity and controlled diffusion. When a chemically amplified negative resist composition comprising the onium salt as an acid generator and a polymer is processed by lithography, a pattern with improved resolution, reduced LER and satisfactory fidelity is obtainable.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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