Gasversorgungsvorrichtung
Anmelder: SMC Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4756008
- Anmeldetag
- 16. Mai 2024
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C12M1/04, G05D7/06
Abstract
A gas supply device (10) for supplying gas to a biological sample comprises: an inlet port (122) through which the gas flows in; an outlet port (124) through which the gas flows out; a discharge port (126) through which the gas is discharged to the outside; a pressure adjustment valve (82) having a main valve (132) that adjusts, according to a pilot pressure, the pressure of the gas flowing through a flow path (150), and an exhaust valve (134) that discharges the gas in the flow path from the discharge port in accordance with the pilot pressure; a pilot pressure adjustment solenoid valve (84) that adjusts the pilot pressure; and a throttle flow path (50) that limits the flow rate of the gas to a predetermined flow rate.
Anmelder
- Firma
- SMC Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
SMC ist ein japanischer Hersteller von Pneumatik- und Automatisierungskomponenten. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Maschinenelemente und Fluidtechnik, ergänzt um Fertigungstechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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Vertreten von
-
Keil & Schaafhausen Patentanwälte PartGmbB
Keil & Schaafhausen Patentanwälte PartGmbB · Frankfurt am Main