Glasdurchkontaktierungen mit Mehrschichtiger Organischer/anorganischer Auskleidung für Integrierte Schaltungsvorrichtungspackungen
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4766140
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2025
- Veröffentlichung
- 24. Juni 2026
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Integrated circuit (IC) die packages including a glass with conductive features embedded within the glass, such as through-glass vias (TGVs). The embedded features comprise metallization separated from the glass by an intervening multi-layered liner that includes both organic and inorganic material layers. In exemplary embodiments, the organic material has a low elastic (Young's) modulus to accommodate internal stress between the glass and the metallization. An inorganic material layer of the liner may be nitride, such as a metal nitride or silicon nitride, and in direct contact with the glass. The multi-layered liner stack may further comprise another inorganic material layer in contact with the metallization and encapsulating the organic material layer.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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