Glasdurchkontaktierungen mit Mehrschichtiger Organischer/anorganischer Auskleidung für Integrierte Schaltungsvorrichtungspackungen

EP4766140 24. Juni 2026

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4766140
Anmeldetag
17. Oktober 2025
Veröffentlichung
24. Juni 2026
Rechtsraum
EP
Offizieller Volltext

Abstract

Integrated circuit (IC) die packages including a glass with conductive features embedded within the glass, such as through-glass vias (TGVs). The embedded features comprise metallization separated from the glass by an intervening multi-layered liner that includes both organic and inorganic material layers. In exemplary embodiments, the organic material has a low elastic (Young's) modulus to accommodate internal stress between the glass and the metallization. An inorganic material layer of the liner may be nitride, such as a metal nitride or silicon nitride, and in direct contact with the glass. The multi-layered liner stack may further comprise another inorganic material layer in contact with the metallization and encapsulating the organic material layer.

Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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