Polymer, Polymerzusammensetzung, Polierflüssigkeitssatz, Polierflüssigkeit, Verfahren zur Herstellung einer Polierflüssigkeit und Polierverfahren
EP4772550
3. April 2025
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4772550
- Anmeldetag
- 10. September 2024
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
A polymer for a polishing liquid, the polymer having a first structural unit derived from at least one styrenic compound selected from the group consisting of styrene and styrene derivatives and a second structural unit derived from at least one methacrylic acid compound selected from the group consisting of methacrylic acid and its salts, wherein a content of the first structural unit is more than 0 mol% and 38 mol% or less.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
794 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München