Verfahren zur Herstellung eines Optischen Systems für eine Lithographievorrichtung, Substrat für eine Optische Komponente einer Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung
EP4785083
3. April 2025
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4785083
- Anmeldetag
- 19. September 2024
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00, C03C3/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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