Polierzusammensetzung und Polierverfahren
EP4787426
3. April 2025
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4787426
- Anmeldetag
- 28. August 2024
- Veröffentlichung
- 3. April 2025
- Rechtsraum
- EP
Abstract
Provided is a polishing composition that is capable of maintaining low haze while achieving great defect reduction, with the composition including a cellulose derivative. The polishing composition provided contains a cellulose derivative and a basic compound. The cellulose derivative has a weight average molecular weight (Mw) of lower than 8×10<4>.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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