Verfahren zum Herstellen eines Mikrostrukturelements und Mikrostrukturelement
Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4803477
- Anmeldetag
- 4. März 2026
- Veröffentlichung
- 9. September 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B81B3/00, B81C1/00
Abstract
Ein Verfahren 100 zum Herstellen eines Mikrostrukturelements umfasst folgende Schritte: Bereitstellen 110 eines Substrats, Anordnen 120 einer Vertiefungsstruktur in einem ersten Hauptoberflächenbereich des Substrats, Anordnen 130 einer Abdeckungsschicht auf dem ersten Hauptoberflächenbereich und in der Vertiefungsstruktur des Substrats, Aufbringen 140 einer Funktionsschicht auf der Abdeckungsschicht auf dem ersten Hauptoberflächenbereich und in der Vertiefungsstruktur des Substrats; Planarisieren 150 der Funktionsschicht, um einen planaren ersten Hauptoberflächenbereich der Funktionsschicht zu erhalten, wobei sich die Funktionsschicht an deren gegenüberliegenden zweiten Hauptoberflächenbereich entlang des Substrats und ferner in die Vertiefungsstruktur des Substrats erstreckt und in der Vertiefungsstruktur eine Verstärkungsstruktur bildet; und Freilegen 160 eines beweglichen Funktionsbereichs der Funktionsschicht durch bereichsweises Entfernen des Substrats unterhalb des beweglichen Funktionsbereichs, wobei die Verstärkungsstruktur zumindest teilweise in einem Verankerungsbereich der Funktionsschicht an dem Substrat angeordnet ist, und wobei die Funktionsschicht ohne Verstärkungsstruktur eine erste Dicke d1 und die Funktionsschicht mit der Verstärkungsstruktur eine größere zweite Dicke d2, mit d2 > d1, aufweist.
Anmelder
- Firma
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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