Elektroplattierungschemie zum Füllen von von Öffnungen mit Reflektierendem Metall
WO0041518
Art A2
20. Juli 2000
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO0041518
- Aktenzeichen
- EP00904207
- Anmeldetag
- 5. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 20. Juli 2000
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25D3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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