Hf Dampfphase zur Halbleiterscheibenreinigung und Oxydätzung

WO0046838 Art A2 10. August 2000

Anmelder: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0046838
Aktenzeichen: EP00907137
Anmeldetag: 4. Februar 2000
Veröffentlichung: 10. August 2000
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

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Anmelder

Firma: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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