Charged particle ray exposure device and method of manufacturing semiconductor device

WO0048225 Art A1 17. August 2000

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO0048225
Aktenzeichen: EP00902972
Anmeldetag: 15. Februar 2000
Veröffentlichung: 17. August 2000
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/147H01L21/30G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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